金融界2025年7月2日消息,国家知识产权局信息显示,上海新阳半导体材料股份有限公司、上海晖研材料科技有限公司申请一项名为“一种抛光液及其制备和应用”的专利,公开号CN120230480A,申请日期为2023年12月。
专利摘要显示,本发明涉及一种抛光液及其制备和应用。本发明的抛光液其包含如下的组分:改性的氧化铈和水;所述的改性的氧化铈通过如下的制备方法制得,所述的制备方法包括如下步骤:利用聚乙烯吡咯烷酮对氧化铈进行表面进行改性,得到改性的氧化铈。本发明的抛光液可以用于在集成电路二氧化硅介质层的抛光,本发明的所述的抛光液在氧化硅和氮化硅之间的抛光选择比较高,抛光效果良好,减少晶圆表面划伤,平坦度参数与抛光工件表面质量良好。
天眼查资料显示,上海新阳半导体材料股份有限公司,成立于2004年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本31338.1402万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业,参与招投标项目71次,财产线索方面有商标信息7条,专利信息404条,此外企业还拥有行政许可104个。
上海晖研材料科技有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本8000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海晖研材料科技有限公司专利信息18条,此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自:金融界
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